第122章 三大件的解決方案
  EUV光刻機的核心技術，主要由三大系統構成。

  首先是EUV光源系統，這個系統負責製造光刻過程中，需要用到的特殊光線。

  從第一代的UV光刻機，到第五代的EUV光刻機，光線的波長也從436nm，縮短到了13.5nm，目前所有的光刻機，就是通過光線的不同，來區分技術等級的。

  這其中主要涉及到的原理，就是光學中光線波長和清晰度的關系。

  最簡單的道理，就是進入黃色的鎢絲燈房間，大部分人都會感覺視線昏暗，

  哪怕多加幾個燈泡，也始終感覺沒有白色的LED燈那麽明亮和清晰。

  這就是因為黃色光的波長，要遠高於白色光，
  光線的波長，就像是海浪一樣，越大的波浪，拍打在海防堤上的水位高低起伏就越大。

  而這個水位的高低落差，換成在光學領域，就成了影響陰影邊緣清晰度的重要因素。

  因此，想要達到越小製程的芯片工藝，就需要波長越短，越無限接近絕對直線的光。

  而在EUV光源技術上，據康馳目前所能查到的資料來看，國內的常春光所應該也已經接近突破的邊緣了，但具體到了哪一步，康馳也不清楚。

  他打算先試著了解一下情況，
  如果條件允許，價格合適的話，他可能會直接向他們進行采購，
  哪怕技術稍微不達標，采購過來自己再進行改良優化，也能節省大量的時間和精力。

  畢竟一台光刻機裡面，有足足十幾二十萬的零部件，全靠大唐重工自己來做的話，那得搞到猴年馬月去。

  而向他們采購，既不浪費他們的科研成果，還能利用上他們的生產力，

  也算是共贏了。

  所以康馳這次，並不排斥自己成為組裝、調試和改良的角色。

  放著華國這麽完整的產業鏈不用，反倒自己去搓每個螺絲，不但浪費國內這麽好資源和基礎，更是閉門造車吃獨食的表現。

  而能用本國的產業鏈，來完成一台光刻機的所有零件製造，全球有且只有一個國家才有可能做到，
  那就是華國。

  換成老M也不行。

  他們也沒辦法只在本國，就找到光刻機全部零部件的供應商，得全球多國合作協同才行。

  而巨大的資源協調成本，更是會大大加重整個研發項目的費用和時間，

  這也是華國的很多產品，能做到成本遠低於國外廠商的主要原因之一。

  總之，無論常春光所有沒有突破EUV光源的技術，康馳都可以嘗試著借用他的研發製造能力，來迅速獲得一套可行的光源系統。

  現在光刻的光有了，

  下一步就是把光，通過一個光學系統，收集並投影到塗上了光刻膠的矽片上面。

  這個光學系統，也是整台光刻機中，造價成本佔比最大的。

  這部分康馳準備對大秦光學的鏡頭生產線，進行升級，然後把它給拆了，直接獲得光刻機鏡片和反射鏡製造，所需要的大部分設備零件。

  這麽做的效率無疑會高很多，

  而且升級後的生產線，估計連解析項目都沒有，

  因為裡面的大部分技術，康馳在解析光刻機的時候，就已經得到了，他本人擁有非常大的解釋空間。

  唯一的缺點就是，需要他在接下的項目中，進行一定的混淆視聽，把這些拆分開的組件，神不知鬼不覺地摻到整個項目裡去。

  嗯，
  就是欺負嚴輝他們對光刻機沒啥研究，

  到時候估計也是康馳讓他們幹什麽，他們就幹什麽，思考空間並不多。

  至於光刻機最後的一個關鍵系統，則是承載矽片的雙工件台系統。

  它的工作原理很簡單，就是在光刻中不斷的挪動矽片的曝光部位，但其中的技術含量其實非常大。

  因為這個工作平台必須快、準、狠。

  速度，決定了光刻機的效率，

  移動太慢了，光刻機的產量就不行，
  這就要求它，在高速移動後，還得迅速且精準地停下，
  停留的位置誤差，還得在1nm以內，

  但凡偏差大一點，整個晶圓就直接報廢了！

  這啥概念？

  大概就是一輛高速行駛的汽車，突然緊急刹停，然後停下位置誤差還不能超過1毫米。
    不過這個難點，在今年5月份的時候，剛好被鉿工大給搞定了，

  他們研發出來的真空高速超精激光干涉儀，位移的分辨率達到了驚人的5pm，位移誤差控制在了30pm！

  要知道，1000pm才等於1nm！

  0.03nm的位移誤差，簡直牛逼到不行！

  康馳簡直懷疑，他們是不是和自己一樣開了掛……

  講真，華國能人還是挺多的，

  如果不靠系統，康馳自己雖然也有一定的把握可以攻克這種技術，但時間就不知道要多久了……

  所以康馳一直也不斷地在提醒自己，雖然系統確實好用，但自己學習和理解的腳步同樣不能停下。

  這不但是為了在解析技術的時候，減輕自己的痛苦，免得突然暴斃，更是為以後萬一出現精通點不夠，需要自研的情況出現時，不至於兩眼一抹黑啥也乾不了。

  總之EUV光刻機的大部分技術難點，其實華國都已經攻克或即將攻克了，只不過具體哪些能夠複刻落地量產，還是個未知數。

  為了得到答案，康馳特地打了個電話給呂首長。

  當聽到康馳問光刻機的事情，呂首長頓時就打起了精神，連忙問道：“你準備搞光刻機研發？”

  “嗯，有這個想法。”

  “搞光刻機好啊！嗯……不過你不是忙著量產采油蟲嗎？哪來這麽多的時間精力研發光刻機？”

  “抽空玩玩唄……”

  “……”

  隨後康馳又在呂首長的沉默中，谘詢了關於常春光所EUV光源系統，和鉿工大雙工件台系統研究情況。

  “嗯……他們確實都有了一定的突破，但具體到了什麽技術節點，還有多久能實際落地，我也說不準……你可以找張院士問問，這方面他比較清楚。”

  於是康馳掛了電話後，又撥通了張達遠的電話，

  結果張達遠一聽康馳的問題，直接就說電話上講不清楚，讓他過去燕京面談。

  康馳強烈懷疑，這老頭就是想把他騙過去，忽悠他搞那個啥穩態微聚束光源，

  但為了爭取縮短光刻機研製周期的機會，康馳也不得不從了他……

  反正過去後任他怎麽說，康馳就是不跟他乾，

  他還能把康馳給扣了不成？
  ……

  經過了兩個多小時飛行，康馳在天黑前就抵達了燕京國際機場，
  前來接機的是陳海的同事，三人匯合後，便直奔HEPS項目部。

  經過層層安檢和報備，康馳終於項目部裡面，見到了帶著安全帽，穿得像工地工人的張達遠。

  看到這個已經年近七十的老人，竟然還能精神抖擻地深居一線，親自參與實驗工程的建設，康馳也不禁感到有些佩服。

  “張院士，好久不見了。”

  剛見面，康馳便主動和他握了握手，讚歎道：“您可真是寶刀未老啊。”

  “那必須的。”張達遠得意地拉著康馳，“走走走，先帶伱參觀參觀。”

  面對張達遠的熱情，康馳自然也不好拒絕，

  何況他本人，其實對這裡也挺好奇的，於是便跟著張達遠，在這個正在建設中的高能同步輻射光源裡面，簡單地轉了一圈。

  　上一章差點被4，好在修改後放出來了。

  　　估計如果寫的太細太貼近事實，非常容易被4……

  　　穩妥起見，接下來在技術和節點，可能會簡單帶過，
  　　然後稍微誇張點，反正牛逼就完事了。

  　　希望大家不用去較真找茬，就當是我瞎幾把亂吹好了。

  　　嗯，
  　　事實上，我就是在吹牛逼，真的！

  　　
  　
  (本章完)