即便郭一這樣說了，林欣還是久久沒有平靜下來。

　　這概念，就算是幻想，大概也沒人這麽想過吧?

　　人工製造類蛋白無機物大分子，還要有蛋白質的功能和特性，進而形成“無機物仿造人”這種無機生物存在的物質基礎?

　　這就是天才的腦回路嗎?

　　不管能不能成，光是這想法本身，那就是一件壯舉！

　　林欣想了許久，隻覺得郭一的這想法實在是太瘋狂，再想下去，自己怕不是要瘋，於是問道:

　　“那個，什麽，系統改造的事情怎麽樣了?”

　　“哦，現在還沒完，比我預想的做的多了一些，而且光的鄰近效應的修正算法比我的要複雜的多，耽誤了一些功夫。”

　　郭一說道:“不過沒關系，我已經聯系徐陽，把一些簡單的改造設計好基礎框架之後交給他們去實現了。我這邊馬上就完工，看徐陽那邊的進度吧，最慢預計後天也就能結束。”

　　這些天，林欣閑著沒事兒的時候，也了解了一些光刻的常識。

　　知道在超大規模集成電路的工藝中，193nm光刻波長的衍射、干涉等光學臨近效應會形成致命問題。

　　她雖然不知道這個修正算法的難度有多大，但想來也會簡單。

　　經過這些日子的了解，林欣可是知道，除了光刻機鏡頭之外，解決光衍射、干涉等光學臨近效應的問題，也是光刻機技術突破的關鍵因素。

　　如果光學臨近效應這個問題能夠解決，28nm甚至7nm級別的光刻機技術就又能向前一步了！

　　國內廠商，苦苦研究十幾年而不得的技術，郭一說改進就改進了?

　　“其實也沒有那麽難，只要細致觀察，仔細推理，這其中的修正方案也並不難實現。”

　　郭一說道:“無非是改進了一下修正模型，使得建立的光刻模型更加精確、計算速度更快了一點，僅此而已。”

　　“模型更精確，速度反而更快了，還說僅此而已?”林欣嘟囔道:“真是一個非人類。”

　　“哈哈！”郭一可是注意到了，林欣說這話的時候，那可是滿臉的驕傲神色。

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　　“常工，這升級方案看起來有一些怪異啊，我怎麽有些看不懂?”

　　郭一領人改造光刻機系統的時候，A1廠的升級改造也在穩步就班的進行著，何興也是一邊調整著設備的參數，一邊跟身旁的常凱聊著。

　　“怎麽看不懂啊?我看這數據很清晰，該怎麽做也很明了啊，何工，你有哪兒看不懂?”常凱說道。

　　“常工，我不是說實施方案看不懂。”何興說道:

　　“我是說，這樣升級原理，我完全沒搞明白。這樣的升級就能實現7nm的生產嗎?

　　經過我的測算，這樣改造之後，工藝製程不但難以升級，不降級就不錯了。”

　　“成與不成的，等過幾天就知道了。”

　　常凱其實也早就發現了，這樣的改變，根本不足以改進生產工藝，只不過他想的比何興更加深入了一些，其中太過複雜，不是一句話兩句話能說清楚的。

　　不僅何興和常凱，幾乎所有參與這次升級改造工作的工程師都發現了這樣的情況，甚至還有人跟安城跟郭一確認過，是不是方案有什麽問題。

　　但郭一確認，就按這個方案實施，其他的讓他們不用管。

　　在各位工程師的眼裡，這樣的改造比起14nm的工藝甚至有一些倒退，但是，工作既然是這樣安排的，郭一既然如此的有信心，那就折騰一番也無妨。

　　實在不行，也就是耽誤幾天生產的事兒，大不了之後再改回來就是了，也不費多大的功夫。

　　如果不是郭一露了一手在先，人還沒到就把28nm的工藝升級成14nm了，那今天再讓這些工程們做今天這樣的事情，所有人都會質疑，甚至是會反對的。

　　但現在，他們雖然都發現了端倪，但經過郭一確認後，他們都沒再吱聲。

　　老老實實的按照郭一的方案改造著，一邊改造，還一邊在思考，這其中究竟有沒有什麽特別的用意?我究竟有沒有哪個地方疏忽還是漏掉了?

　　這就是權威的作用，只露了一手的郭一，現在在這些工程師眼裡，那已經成了權威。

　　廢話，全世界沒人能做到的事情，人家沒露面就做到了，這還不是權威，那什麽才是權威?

　　何興瞅了瞅常凱，心裡有些不安:難道這家夥已經看懂這些改造的端倪了?他怎麽就這麽淡定?這麽從容?

　　芯片生產工藝本身就是一個極為複雜的過程，牽一發而動全身，考慮不周的情況實在是不罕見。

　　確實會存在某個步驟誤差比較大，卻是故意而為的情況。

　　其目的就是為了衝抵另一個過程造成的誤差，這是一種衝抵矯正方案。

　　完成了自己的工作之後，何興又仔細的研究了一遍整體的方案，還是沒有發現任何的端倪。

　　在現有的光刻機條件下，這樣的改造確實提升不了生產工藝和良率，反倒會增加曝光後圖形的偏差。

　　“等等！現有的光刻機條件?”何興突然意識到了什麽:“郭工現在可是不在啊，他幹什麽去了?莫非……”

　　一個大膽的念頭從何興的腦海裡冒了出來:那就是升級光刻機！

　　升級硬件當然是不可能的，但升級軟件……

　　“光學臨近效應引起的圖像偏差問題！”何興立即意識到問題的關鍵所在。

　　他一直在A1廠，這台光刻機他可以說是了如指掌， 光刻機的控制程序確實有可以升級的空間，他們一直也跟廠家有反饋。

　　但，那都是小打小鬧似的升級。

　　“如果，徹底改造控制程序，進一步修正193nm極限工藝下的鄰近效應導致的曝光圖像偏差問題……”

　　何興腦洞大開，有了這樣的想法，即便知道沒什麽可能，他還是立即對這個方案進行了計算驗證。

　　不計算還好，這一計算，何興是直接被驚到了——郭一的改造方案竟然真的是照著這個思路再走！

　　換言之，郭一的改造方案就是這個！

　　“他竟然真的能夠進一步改進光學鄰近效應引起的圖像偏差?”

　　看著最終的計算的數據竟然如此吻合，何興也是直接癱在了椅子上:

　　“他也不是生產光刻機的專家啊，這可能嗎這?這要讓魔都微電子知道了，他們不得瘋掉啊！這哪是改進生產工藝啊，這直接是改造光刻機了都！”

　　即便何興不是光刻機的專業人士，他也知道光刻機最大的兩個核心部件，一個就是鏡頭，另一個就是光源。

　　光源最核心的問題，其實就是修正這個光學臨近效應引起的圖像偏差。

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