高易將杯中最後一口咖啡喝了下去,順手把咖啡杯擱在身旁的琴架上,接著他舉起手臂伸出三根手指,在頭頂旁轉了半個圈,就像是在擰螺絲那樣。
燈光隨著他的手勢緩緩亮了起來。
船首形的玻璃幕牆遠沒有從外面看來那樣銳利,夾角幾乎達到70度,隔出了一個近30平米的三角形空間。高易的前任曾把這裡設計成一個私密的小會客室,還安上了厚厚的電動窗簾同辦公室隔離開來。
高易則更喜歡不受打擾的一個人獨自享受這裡的景色,他把礙眼的家具全部搬了出去,甚至連椅子都沒留下一張,隻是在夾角處孤零零的擺放了一架電子鋼琴。
疲憊的時候,端上一杯8x或者16x咖啡因的咖啡,欣賞下遠處的地平線,然後戴起耳機,隨性的彈上幾個小節,或者任憑心意落鍵,乾脆亂彈一曲。高易管這個叫頭腦馬殺雞。
不過今天沒時間做全套馬殺雞了。按照既定計劃,他需要在未來的五天內結束課程錄製。考慮到最後幾堂課的複雜程度,他必須預留出充分的冗余時間來,所以前三天至少要錄完十二堂課才來得及。
他低下頭看了眼腕表,時間已經過去了十二、三分鍾。
“再待個兩分鍾吧,正好湊滿一刻鍾。”高易心裡想著,抬頭向外看去,隻是眼前所見並非預期中燈火璀璨的港城天際線。
夜色如絲絨般襯托著玻璃幕牆,室內的燈光射在上面就如射在明鏡上一般,光線從一側幕牆中反射出來,又射入另一側,然後再次被反射出來,如此循環往複;更有幕牆外的光線,五光十色,或靜或動,撕開沉沉夜幕投射進來,卻被捕獲在這循環的牢籠之中,反倒是洇染出一派紛繁迷離之色。
紛雜光影間,是高易於兩面幕牆間反覆映射而成的數道身影,在夜空鑄就的深沉陰暗的鏡面中,看上去卻顯得格外的年輕。
高易臉上的皮膚,如果細細尋覓的話,已經能夠發現許多處微小的皺紋,這是無可奈何的歲月痕跡。隻是當溶溶夜色取代了鏡面中冰冷的金屬反射層後,這一切的瑕疵似乎都被遮掩了過去,他依稀又看到二十年前的自己。那時他還是“高維斯”,而不是今天這個需要拿著滄桑來賣萌的中年大叔,任何女孩子都不會介意跟他上演一段“生死時速”,但是那時的他卻寧可一個人關在實驗室裡,孤獨的追求屬於自己的Speed。
然而昔日信誓旦旦獻身科學的少年,如今又身在何方?
真是可歎啊,明明應該靠頭腦吃飯的人生,最終卻偏偏落得隻能依靠顏值。
高易曾經的理想是成為格魯夫那樣的人物。
這個理想的形成,是在他大三那年。當時他還是個稀裡糊塗的intern,卻稀裡糊塗的搞出來一種主鏈為純脂環的聚降冰片烯衍生物。後來他發現這種聚合物有粘附力、抗蝕、有較高的玻璃化溫度,並且最重要的是它在193nm波長處透明。
這意味著,在丙烯酸酯聚合物之外,他又發現了一種新的能用於193nm波長的光刻膠。
那時候還是248nm時代,248nm光刻機的最佳可達分辨率是0.15μm,也就是說此時芯片製造工業的最高製程是0.15微米。而193nm光刻膠則能將芯片製造帶入納米時代。
高易雖然是個學霸,但從來都隻是個為了學習而學習的學霸。他之所以學習,是因為學習比不學習要來得更容易。
學了能得到周圍的讚揚,學了就有光鮮的人生,而他恰好又有一顆適合學習的大腦,那麽何樂而不為呢? 他從來不會為了堅持自己的想法而和周圍的環境作對抗,也從沒有想過要嘗試著去打破局限住自己的邊界,雖然大家都會稱讚他的才智、稱讚他的能力,但就像水銀那樣,他的才智和能力只會流向應該去的地方。
但是在那一天,當高易突然意識到自己發明了什麽,以及這個發明將會如何作用於這個時代的時候,一種使命感油然而生――原來自己也是有能力去改變外在環境的,原來自己也是有能力去影響這個世界的――一種全新的,想要去做些什麽的渴望突然間就滋生了出來。
那個時代的年輕人崇拜兩個英雄,一個是微軟的比爾・蓋茨,另一個是英特爾的安迪・格魯夫。雖然高易喜歡更有錢的比爾・G,但是既然格魯夫出身化學專業,而他自己的發明又正好是芯片工業所需要的光刻膠,那麽成為格魯夫那樣的偏執狂似乎也是個不錯的選擇。
接下來的數年裡,無論是在德克薩斯,還是在麻省的林肯實驗室,高易的研究方向始終都是157nm光刻劑以及相關的光致產酸劑、溶解抑製劑等。157nm是當時業界普遍認為的再下一代光刻技術,這是因為193nm工藝理論上是無法延伸到65nm技術節點的,所以即便仍是在以248nm為主流的年代,業界已經未雨綢繆的開始65nm以及下延到45nm節點的新技術研究了。
這是高易過得最充實的一段歲月,從157nm波長深紫外光的65nm節點、45nm節點,到13.5nm波長極紫外光的32nm節點、22nm節點,一條康莊大道展露在他的眼前。而他終將如格魯夫那樣,憑借學術上、技術上的優勢,從研究者轉向管理者,成為執業界牛耳的大佬,成為時代的風雲兒。
2002年,台積電的一名處長林本堅認為,既然水對於193nm波長的光幾乎是完全透明的,而且水對193nm光波的折射率高達1.44,那麽為什麽不製造一種以水作為浸入液的水浸式光刻機呢?這樣,隻要在光刻機投影鏡頭與矽片之間充滿水,193nm的光波就將在水中變為134nm,這已經遠遠超越了157nm,那麽還有什麽理由去使用157nm技術呢?
157nm意味著新的生產線,新的設備,新的工藝,新的流程,新的磨合期,新的不良品率,而這些終將轉化為――新的成本。
反觀水浸式193nm,成熟的生產線,成熟的技術,成熟的工藝,成熟的設備。隻要設備廠商做些小小的改進,解決掉水浸入有關的問題,那麽一切問題都將迎刃而解,簡單、高效、最重要的是――便宜。
於是,幾乎所有研究光刻膠的研究者們,都改行去研究純淨水。而人類就這樣廉價的、無縫的跨入了新的納米芯片時代。
然後是折射率為1.64的第二代浸入液,有效波長降為116nm。沒多久,折射率為1.8的第三代浸入液出現了,有效波長降為107nm。
接著是雙重圖形技術。用最簡單的話來講就是把一張高密度的電路圖分解成兩套分立的,低密度的圖形,然後進行光照兩次,成像兩次,再疊加在一起生成原有的圖形。譬如,間距64nm的電路圖,可以分解成兩張間距128nm的電路圖,隻要保證這兩張電路圖上的元件和線路正好錯位64nm。接著用這兩張圖連續光刻,雖然每一張圖都是間距128nm的,但最終圖形間距卻是64nm。
而使用這種方法,在不更換原有光刻系統的前提下,就可以把線寬降低到原來的一半。如果需要更低的線寬,還可以用更多的分立圖形,三個、四個,而節點也就延伸到了20nm,14nm。
所以,即使是在二十年後的今天,人類仍舊在使用著193nm光刻技術。
所以,2002年的某一天,高易突然發現自己的研究之路――斷了。
兩年後,高易仔細整理了自己在教學、科研和服務三方面的所有記錄,向系評審委員會提交了終身教職申請。
他把這視為學術道路上的最後一次嘗試,為此他從實驗室回到學校,老老實實教了兩年書。
評審的過程十分冗長,從系評審委員會,到學院評審委員會,再到學校評審委員會,整整持續了九個月時間。
而在歷經九個月的壓力、不安、痛苦之後,高易終於得到了他的審核結果――
經委員會慎重考慮,他不合格。
高易結束了長達九年的有理想、有擔當、有作為的三有青年之路,接下來他所做的無非是――從一個有錢的工作,換到另一個更有錢的工作,住更大的房子,開更好的車,交更漂亮的女朋友,找最有錢的老婆。
高易把這種人生,稱為水銀瀉地般的人生,因為水銀落地後,總是會在最方便滾動的路線上滾動。