這個時期，手機行業的競爭正在迅速形成。

　市場日益激烈。

　翻蓋手機被製造出來了，滑蓋手機也開始出現，這讓那些手機廠商，根本無暇分心研究觸摸屏這個領域。

　再加上，現在的客戶，他們更在意手機是否結實耐用、電池續航時間長不長，等等“質量”問題，所以誰也不會浪費時間，金錢，去考慮製造市場看不上的手機。

　陳偉東提出來的這個設想，索尼公司並不好看，但看在他的“巨資”份上，還是很樂意陪他瘋一把的。

　因為這不僅可以累積經驗，也可以加快技術的革新。

　無論怎麽看，都是雙贏。

　離開索尼公司之後，陳偉東馬上就打電話聯系了陳傑，跟他說明了前期需要的準備工作。

　包括和索尼公司的一些合作細節。

　想要跨越最少十年的技術壁壘，可不是一件容易的事情。

　光是一個手機的操作系統，就不是一般的難。

　雖然無窮大計算機公司，有上千名優秀的程序員，但他們擅長的是應用軟件開發，對於如何設計一款手機操作系統，完全就是抓瞎。

　最後，計算機部門經過研究討論，決定還是從模彷開始。

　否則從無到有，光是摸索，就要花費大量的時間。

　山寨，永遠是追上對方技術腳步最快的方法。

　他們找來和塞班公司聯名開發的新款手機，準備先剖析塞班系統的內核，然後嘗試設計出一款簡單的操作系統，最後再加以改進....

　這個時候，由於無窮大公司和精密研究所的關系緩和，不少研究人員又陸續回到了實驗室。

　他們樂得嘴都合不攏了，都在交口稱讚，還是陳傑大度。

　然後，就一頭鑽進了實驗室，繼續他們之前沒有完成的研究。

　按理來說，

他們這些“外來人員”，使用公司的儀器，是要收費的，但陳傑通過趙工了解到，精密研究所簡直窮的叮當響，一年的經費都才七八百萬。

　這也就讓他實在沒好意思開口要錢。

　克魯格教授，也在最近一個月，和陳傑等人進行了多次討論，終於確定了研究方向。

　他現在的首要目標，就是設計出一款芯片圖紙，這個難度非常大，需要很多人配合。

　小小的芯片，集合了全人類的智慧，其實就連美利堅，也沒辦法完全掌握所有的環節。

　一枚手機芯片的面積基本上只有10平方毫米左右，也就是和大拇指甲蓋差不多大。

　而且這裡面可不是只有cpu一個結構，其他諸如gpu，npu，isp，dac解碼芯片，基帶等等結構全部都要位列其中。

　設計師要把幾十億個晶體管，排列在這個指甲大小般的區域內，並讓它們準確無誤的進行工作。

　精準度就好比用筆，在上面凋刻出一整座城市。

　一款芯片從圖紙階段到實物階段，大概需要經過2個步驟，分別是芯片設計和芯片製造。

　打造一款芯片就像是建造一棟大樓，而芯片設計就像給大樓設計建築圖紙。

　美利堅在芯片設計領域，佔據了絕對優勢。

　他們的半導體產業起步最早，世界上第一塊芯片就是他們製造出來的。

　芯片是半導體產業的產品，半導體是用來做芯片的材料。

　這個行業，通俗一點，就叫芯片行業，學術一點就叫半導體行業，實際上相當於土豆和馬鈴薯的區別。

　僅僅設計出芯片，還是遠遠不夠的，他還需要用光刻機在芯片上進行凋刻。

　光刻機就相當於凋刻用的“筆”。

　而世界上，只有3個國家有能力製造出光刻機，其中能製造出高端光刻機的，只有島國和荷蘭。

　島國的國土面積雖然不大，卻掌握著強大的科技實力和工業基礎。

　在八十年代，島國的光刻機是全世界最先進的。

　那個時候，尼康、佳能公司也能生產光刻機，曾一度佔領行業50%以上的份額，包括ibm、英特爾、德州儀器在內的大客戶，無一不爭相搶購他們的光刻機。

　然而，由於這兩家公司的一個失誤，導致島國將光刻機巨頭的皇冠，拱手讓給了荷蘭的asml。

　asml從2000年左右開始研發euv光刻機，並決定大規模量產。

　彼時，島國光刻機企業卻認為系統太過複雜，並未選擇跟進。

　那個時候的asml還是一家小公司，面對島國製霸光刻機市場，他們決定以小博大，彎道超車，試一試台積電，林本堅提出的“浸入式光刻機技術”。

　這個技術，你聽起來覺得很高端，實際上是一種非常簡單的技術，簡單到陳偉東第一次聽說的時候，還以為自己聽錯了。

　所以他對這件事情印象深刻。

　浸入式光刻技術，就是在光刻鏡頭，與待刻的矽晶片之間，充滿液體，就可以大幅度提高光刻機的加工精度！

　陳偉東將這項“技術”，告訴了克魯格教授。

　最近這些天，他在實驗中將那台從樹屋研究所帶回來的光刻機，精度一百九十納米的光刻機，成功刻製出了一百零五納米的密集圖形！

　這一結果讓他欣喜若狂！

　幾近失態！

　通常的光刻機，在光刻鏡頭與矽晶圓之間，沒有任何遮擋。

　當然， 從另一個角度來說，它們之間，存在的是空氣。

　浸入式的思路，就是用液體來替換掉中間的空氣。

　由於液體具有折光率，所以當紫外線通過液體介質之後，它的光源波長就會縮短，從而起到精微刻製的作用。

　本來他們還覺得有些老舊的光刻機，突然搖身一變，成為了一百零五納米的光刻機，遠遠的超過了現有的光刻技術！

　其實這個浸入式光刻技術，並不算asml首創。

　早在80年代初，就有科學家采用浸入技術，成功提高了光刻效果。

　然而，這項技術，它的液體很容易汙染光學鏡片。

　所以這個這個時期的主流光刻技術研究，只是將其作為一個過渡手段，並沒有起到足夠的重視。

　一旦下一代光刻技術成熟，便會毫不猶豫的拋棄浸入式光刻。