第276章 向光刻機開刀!
於是在2004年1月17日的時候,雙方正式在夏科院總部的超大型會議廳中召開了新聞發布會。
面對夏科院與曙光科技舉行的聯合發布會,國內國外的記者自然是感到了有大事發生。
於是在發布會正式舉行之前,現場的記者們全都一臉激動地討論著接下來將會發布些什麽新聞。
“這次曙光科技竟然和夏科院舉行聯合發布會,總感覺這次會鬧出震撼全世界的大新聞啊。”
此時說話的是一個戴著眼鏡,有著許多胡扎的青年記者。
對此現場一個年輕的女記者,也是一臉激動地說道:
“我也有這樣的感覺,畢竟別的不說,這可是夏科院啊。
夏科院是我大夏高端智力匯集的場所,大夏高端研發力量集合體,此時夏科院與曙光科技合作肯定是不一般的合作。
所以這次絕對有大新聞,看來能獲得一個頭條大新聞了。”
面對那女記者的話語,現場其他記者也是點點頭,隨後眼露期待之色。
畢竟做記者的誰不希望能采訪到那種頭條級別的大新聞呢。
這時門外傳來一陣騷亂。
對此,記者們瞬間提起了精神,然後看向門口的方向。
只見外面的林晨正與一個戴著眼鏡的老者與一群老人與一個年輕走進了這個超大型會議廳。
“那是夏科院的陸院長,身旁的那幾位老人與一個年輕如果不出我所料應該是院士,我以前應該采訪過他們的新聞。”
此時說話的是一個四十幾歲的中年記者,看他話筒上面那央媽電視台的圖標就知道他是著名的央媽記者。
見此,周圍的記者們瞬間亢奮起來。
此時夏科院的院長與林晨站在一起,身旁還有幾位院士,看樣子這次夏科院與曙光科技的合作必定不簡單啊。
這大夏院士別看只是個終身榮譽稱號,但想要得到這稱呼可不容易,因為一年平均也不過能誕生五六十個院士而已。
從建國至今大歷年積累並活著的院士也不過幾百人,平均下來就是百萬分之一的概率,由此可見想要成為院士究竟有多麽的困難。
在這種情況下,能成為院士就代表著走到了研發領域的頂點,是無數科研人員畢生所追求的最高目標。
“哢嚓哢嚓哢嚓哢嚓哢嚓……”
在林晨與夏科院陸院長以及幾位院士走上舞台的時候,記者們已經按下了手中的相機,將他們走進大門的一幕拍攝了下來。
就這樣一路伴隨著燈光的閃爍,用了幾十秒終於來到了舞台的中央。
“很高興記者嘉賓們參加這場新聞發布會,這場新聞發布會的內容就是正式對外公布我們夏科院和曙光科技合作的一場新聞發布會。”
此時說話的是夏科院的陸院長,只見此時陸院長停頓了一下後接著說道:
“至於這次合作是什麽,合作的內容主要就是我們夏科院與曙光科技將會聯合成立光刻機研發團隊。
共同研發第5代光刻機,也即是ArFi浸沒式DUV光刻機!
這第5代光刻機如果研發完成,那麽我大夏將會成為世界第二個能生產第5代浸沒式光刻機的國度。
也代表著我大夏將會擁有生產90納米與65納米芯片的能力。”
面對夏科院陸院長的話語,現場絕大部分記者自然是一臉懵逼。
無他,光刻機這東西的知識實在是太深奧了,沒有了解過半導體與了解過光刻機的人自然是對啥是第5代浸沒式光刻機並不了解。
浸沒式光刻機是當前世界最先進的光刻機,雖然它本質上仍然是AeF乾式光刻機,采用的光源波長仍然是193nm。
但193nm光源波長經過水的折射之後,光源波長能降低到134nm,最終擁有更加精細的加工能力。
就像本來一把粗糙的刀口變得更加細小,所以浸沒式光刻機技術相當神奇。
堪稱能化腐朽為神奇,能用取巧的辦法省掉無數功夫,也省下了無數的錢財。
然而面對如此神奇的技術林晨其實並不怎麽滿意,因為如果光刻機其他零件精度與加工精度乃至零件質量技術能做得好。
那相當於134nm光源波長浸沒式光刻機理論上是能加工7納米製程工藝的芯片,但理論是理論實際是實際。
因為光刻機並不是你將光源波長做到134nm,然後靠著134nm光源波長最小能生產7納米芯片的能力就能生產7納米芯片。
光刻機它是一個整體,光刻機一共有數萬個精密零件,任何一個零件或系統的不足都會影響最終的光刻精度。
就比如你有一把加工精度達到7納米級別的激光刻刀,有了它理論上你可以刻畫精度達到7納米級別的藝術品。
但實際當你拿到那激光手術刀後,你會發現刀是好刀,但自己握著激光刻刀的手一直亂抖亂動,根本就控制不了7納米的雕刻精度。
而且更頭疼的是你會發現你的眼睛看不清楚7納米的東西,就算通過對焦能看清到7納米的東西,
但如果你的手輕微動一下,那會憤怒地發現自己又看不到7納米級別的東西了,你需要反覆地對焦。
而且最頭疼的是就算手不抖了,眼睛也看好了,你會發現你的身體體質其實並不太好。
往往工作一段時間就要休息一下, 讓人家維修更換身體零件。
而別人呢,能連續工作幾年都沒啥事,而你往往一兩個月就必須檢修更換零件,這身子骨對比別人真是相當的弱。
所以就算你有了加工精度達到7納米的激光手術刀,但你卻做不到那樣的雕刻精度,一把好刀在你手上蒙塵了。
在這種情況下,這也是浸沒式光刻機能做到7納米級別的理論加工精度。
結果夏科院陸院長卻聲稱能達到90納米與65納米芯片的原因。
之所以號稱能做到90納米與65納米,而不是號稱能做到最高7納米。
這是因為以大夏的材料技術與加工精度最高只能65納米,更進一步已經沒辦法了。
想要突破需要大夏的加工精度或材料技術與檢測技術全部達標才行,而這也是前世為什麽高端光刻機為什麽那麽難突破的原因。
所以前世高端光刻機那麽難突破除了光刻機專利壁壘因素之外,更重要的原因是大夏材料技術與加工精度技術與檢測技術不達標。
(本章完)