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　光電會議室。

　三個青年人再次聚集在了一起。

　雖然青澀的面容，出賣了他們的真實年齡，但這幾位可不是一般的年輕人。

　自從顧明，右天相繼退出童子軍後，葉靜，一個女孩子，成了童子軍的實際領導人。正是這段經歷，為她未來的發展，打下了堅實基礎。

　嚴亮把更多的精力放到了TFT-LCD的技術演化上，如今也有了一絲精英氣質。

　一系列的儲備技術，在他的手裡慢慢成形，五步光刻技術，就是他的作品之一。IPS，FFS等一批專利技術，為《全彩科技》提供著應對未來挑戰的底氣。

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　“《一號工程》到了啟動的時候。”

　上次的零號工程，遭到了大家的一致反對，這才導致了《全彩科技》的誕生。否則白學成公司的名字，應改是《零點科技》才對。

　“其實不用說，我們也知道，是不是準備上晶圓項目了?算起來也到時候了啊！”

　LCD驅動芯片開發，不是什麽保密的事情。集成電路專業的一幫人，為這個事情已經忙活半年多了。他們不僅僅是忙，更重要的是燒錢。

　EDA軟件，一套就要二十幾萬美元。雖然教育機構購買，有一定的優惠，但十幾萬美元還是逃不掉的。

　這種大規模集成電路設計，肯定不可能由一個人來完成。多人協同工作，就需要多套軟件。項目什麽成果還沒有看到，近千萬人民幣就消失了蹤影。

　這些錢，總不能白花吧。

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　“說說看，這個一號工程要怎麽個搞法。”

　這兩名同鄉，隨著公司的成長，他們的視角也在不斷提高。對很多問題的觀察點，和觀察角度，都與普通人有了明顯不同。站在巨人的肩膀上，指的就是這個意思。

　“我認為，

還是要一步步來。我們在晶圓產業上沒有積累。目前的當務之急，還是追平國內的先進的技術，也就是2微米技術。”

　葉靜首先給出了建議。

　1986年，電子工業部提出了“531”發展戰略，即普及推廣5微米技術，開發3微米技術，攻關1微米技術。

　時間已經整整過去了6年，除了一微米這個目標沒有達到以外，其它兩個已經差不多完成。1.5微米的分步投影光刻機，於1985年就已經研製成功。這也是後續的908工程，提出進軍1微米的基礎。

　在這個時間點，國內的晶圓廠，已經有不少采用4-5英寸晶圓，2-3微米的技術。

　這些前輩們的心血沒有白費，它給光電帶來了足夠高的起點。

　當然了，這幾年，國際上的半導體工藝，進步也沒有停止。最新建成的幾座晶圓廠，已經進步到0.5微米了。

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　“這個觀點，我不同意，我們上項目的目的是什麽?如果最終目的達不到，花這麽多錢，去建一條沒有用的晶圓廠，有什麽意義呢?

　要上，我們就要上最先進的，直接上0.35微米！”

　隨著不斷的成功，嚴亮的野心也在不斷滋長。尤其是他手裡掌握的幾個儲備技術，讓他有了更大的進取心。

　在他眼裡，國際上所謂的電子巨頭，也就是那麽回事。他們除了有點臭錢以外，還有什麽?塚中枯骨而已。

　LED事業，光電的起點很高，一出手就是世界第一。

　TFT-LCD雖然差點，但是至少也是第一波。如果晶圓變成了跟著別人屁股後面轉，這不是有損自己的光輝形象嘛！

　“0.35微米?你說話過腦子沒有?技術來源在哪裡?你知道建一條0.35微米的晶圓廠要多少錢嗎?”

　隨著晶圓工藝進程的逐步提高，晶圓廠的造價也在逐步提高。這也是908只要20個億，而909則上升到了100個億的主要原因。

　兩者之間的核心區別在與，908的工藝是0.9微米，909則是0.5微米。

　0.35微米的晶圓廠的造價，在國際上，已經上升到10億美元級別了。(0.35微米，在國際上的批量的普及，是在95年之後的事情，PentiumPro就是世界上第一批采用此工藝(P854)，第一批量產的芯片。)

　當然，這裡還有些其他區別，例如產量，晶圓尺寸等。

　如果晶圓工藝這麽容易的話，那個破光刻機也就沒有必要牽動這麽多人的心了。

　兩個人很快就自己吵了起來。

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　“永興，你是啥意見?你不是把我倆叫來，看吵架的吧。”

　“你們說的都對，又都不對。”

　“怎麽講?”

　“晶圓廠要上，但也要考慮現實情況，空喊口號是沒有用的。我們畢竟沒有積累。

　但同時，我們的目標也要實現，錢不能白花！如果只是上2微米的晶圓廠，根本沒有意義。”

　“咦?你這是啥意思?兩面的話都讓你說全了！”

　兩位老鄉同學，都覺得自己的耳朵出了問題。

　“這次我準備，用2微米的半導體設備及工藝，來生產1微米的芯片！”

　...

　“這怎麽可能?”

　“我就知道你腦袋裡肯定有東西。”

　兩個不同性格的人，在沉思片刻後，發出了完全不同的感歎。

　“你不是在開玩笑吧。如果真有這種技術，為什麽全球這麽多企業每年投入這麽金錢，去改進他們的工藝流程，提高生產設備的精度?908工程是在幹什麽?”

　葉靜生性比較保守，看事情更多的是看風險。

　“這個技術是有的。這也是為什麽這個工程被叫做一號工程的緣故。它的保密級別甚至高於液晶的ODF工藝。”

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　“好吧，你說吧。我們準備好了。”

　這已經不是第一次了，成永興召集兩人商量一些高度機密性的科技信息。

　經過MEMS，LED，以及LCD的不斷洗禮，兩個人對晶圓工藝已經不陌生了。

　在後世，人們一提起半導體設備，被津津樂道的，就是光刻機。大家普遍認為，光刻機是中國在半導體工藝上落後的唯一瓶頸。

　這句話對，也不對。

　對，是因為，中國在半導體工藝領域，被甩得最遠的代表設備就是光刻機。

　其他設備，例如蝕刻設備等，它們與國際先進水平，即使有些差距，差距也沒有這麽大，甚至某些設備，國產設備已經開始反攻國際市場。

　光刻機決定半導體制程的情況，僅僅是出現在2005年之後。這就是地球人都知道的，ASML的天王山之戰。

　ASML在浸入式光刻機上，打了場翻身仗，一舉把日本的幾家競爭對手掀翻在地，從而奠定了在光刻機市場的壟斷地位。

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　但實際上，在2005年的前後，決定半導體芯片製程的幾個核心技術，都不是光刻機。因為此時，光波的波長，還沒有撞到極限(193nm).

　中國已經有了1.5微米的光刻機，但是其他輔助工藝，達不到這麽高的精度。

　幾十年來，對光刻設備的要求主要基於摩爾定律，通過減小波長和增大數值孔徑(NA)來獲得更高分辨率。

　但是激光的可用波長就那麽幾個，激光波長減少幾次，就無以為繼了。

　2004年開始，光刻機就開始使用193nm波長的DUV激光，誰也沒想到，光刻光源被卡在193nm無法進步長達十幾年。

　哪怕采用了沉浸式光刻機，也僅僅是使晶圓工藝成功突破了幾個節點。

　過了一段時間，半導體工藝的工藝演進路線，再次遇到了類似的問題。後世的14nm，10nm，7nm的技術突破。 都不是通過升級光刻機來實現的。

　在光刻機無法升級的情況下，為了突破這個障礙，人們開始尋找別的突圍方向。

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　隨著科學家們的腦洞大開，一個行之有效的方法，真的被找到了！

　更為可喜的是，這個方法思路非常簡單，而且特別適合這個時代。

　在完全在不改變設備技術水平的情況下，可以提高晶圓的製程！

　之所以這個方法沒有被廣泛宣傳，是因為所有的晶圓廠都在使用。大家都在用的技術，自然就失去了神秘性和趣味性。

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